Determining a configuration for an optical element positioned in a collection aperture during wafer inspection

Détermination d'une configuration pour un élément optique positionné dans une ouverture de collecte pendant l'inspection de tranche

Abstract

La présente invention concerne des procédés et des systèmes pour déterminer une configuration pour un élément optique positionné dans une ouverture de collecte pendant l'inspection de tranche. Un système comprend un détecteur configuré pour détecter la lumière provenant d'une tranche qui traverse l'élément optique, qui comprend un ensemble d'ouvertures de collecte, lorsque l'élément optique a différentes configurations de manière à générer différentes images pour les différentes configurations. Le système comprend en outre un sous-système informatique configuré pour construire une ou des image(s) additionnelle(s) à partir de deux ou plus des différentes images, et les deux images différentes ou plus utilisées pour générer l'une quelconque de la ou les image(s) additionnelle(s) ne comprennent pas uniquement les différentes images générées pour les ouvertures de collecte individuelles dans l'ensemble. Le sous-système informatique est en outre configuré pour sélectionner une des configurations différentes ou additionnelles pour l'élément optique sur la base des différentes images et de la ou les image(s) additionnelle(s).
Methods and systems for determining a configuration for an optical element positioned in a collection aperture during wafer inspection are provided. One system includes a detector configured to detect light from a wafer that passes through an optical element, which includes a set of collection apertures, when the optical element has different configurations thereby generating different images for the different configurations. The system also includes a computer subsystem configured for constructing additional image(s) from two or more of the different images, and the two or more different images used to generate any one of the additional image(s) do not include only different images generated for single collection apertures in the set. The computer subsystem is further configured for selecting one of the different or additional configurations for the optical element based on the different images and the additional image(s).

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